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HD-PECVD법으로 제작한 SiN 박막의 특성: . = Characteristics of sin thin film prepared by HD-PECVD
표제/저자사항 HD-PECVD법으로 제작한 SiN 박막의 특성: . = Characteristics of sin thin film prepared by HD-PECVD / Y-T Lim P-K Shin K-B Park J-H Yuk J-K Park
발행사항 서울 : 대한전기학회, 2011
형태사항 PDF2 p.
주기사항 수록자료: 대한전기학회 학술대회 논문집 (20110720), p. 1473-1474
표준번호/부호 UCI  G701:C-00056445955
분류기호 한국십진분류법-> 560.5
출처 국립중앙도서관 바로가기
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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