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알카리 식각과 반응성 이온 식각을 이용한 결정질 실리콘 2단계 표면 조직화 공정 = Two step texturing using RIE and wet etching for crystalline silicon solar cell
표제/저자사항
알카리 식각과 반응성 이온 식각을 이용한 결정질 실리콘 2단계 표면 조직화 공정 = Two step texturing using RIE and wet etching for crystalline silicon solar cell / In Hwan Yeo Ju Eok Park Jun Hee Kim Hae Sung Cho Donggun Lim
발행사항
서울 : 한국전기전자재료학회, 2013
형태사항
주기사항
간행빈도: 월간
수록자료: Journal of KIEEME 26권 2호 (20130201), p. 140-143 ISSN 1226-7945
수록자료: Journal of KIEEME 26권 2호 (20130201), p. 140-143 ISSN 1226-7945
표준번호/부호
UCI G701:C-00067714316
분류기호
한국십진분류법-> 569.205
출처
국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
