국가전거
저자 전거 검색
전자책
Improvement of thermal stability of nickel silicide using co-sputtering of Ni and Ti for nano-scale CMOS technology
표제/저자사항
Improvement of thermal stability of nickel silicide using co-sputtering of Ni and Ti for nano-scale CMOS technology / Meng Li Oh, Sung-Kwen Shin, Hong-Sik Lee, Hi-Deok
발행사항
서울 : 대한전자공학회, 2013
형태사항
주기사항
간행빈도: 기타 간행빈도
수록자료: JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE ISSN 1598-1657
수록자료: JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE ISSN 1598-1657
표준번호/부호
UCI G701:C-00068110612
출처
국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
