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Reactive ion etching with high density plasma for two-step texturing
표제/저자사항 Reactive ion etching with high density plasma for two-step texturing / 여인환 박주억 김준희 조해성 임동건 [1970-]
발행사항 서울 : 한국진공학회, 2013
형태사항 PDF1 p.
주기사항 간행빈도: 기타 간행빈도
수록자료: 한국진공학회 학술발표회초록집 2013년 (20130218), p. 701-701
표준번호/부호 UCI  G701:C-00068114173
분류기호 한국십진분류법-> 554.9205
출처 국립중앙도서관 바로가기
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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