일반도서
반도체 드라이 에칭 기술 = Dry etching technology for semiconductors
표제/저자사항 반도체 드라이 에칭 기술 = Dry etching technology for semiconductors / 노지리 카즈오 著 ; 전민성 譯
발행사항 서울 : 홍릉, 2021
형태사항 xi, 228 p. : 삽화, 도표 ; 21 cm
주기사항 원저자명: 野尻一男
원표제: はじめての半導体ドライエッチング技術
참고문헌과 색인 수록
일본어 원작을 한국어로 번역
표준번호/부호 ISBN 9791156008828 93560: \32000
분류기호 한국십진분류법-> 569.4듀이십진분류법-> 621.38152
주제명 에칭[etching]    반도체[半導體]    제조 기술[製造技術]
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6361)
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