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Machine learning-based prediction of atomic layer control for MoS<sub>2</sub> via reactive Ion etcher
표제/저자사항 Machine learning-based prediction of atomic layer control for MoS<sub>2</sub> via reactive Ion etcher / Changmin Kim Seunghwan Lee Muyoung Kim Min Sup Choi Taesung Kim Hyeong-U Kim
발행사항 서울 : 韓國眞空學會, 2023
형태사항 PDFp. 106-109
주기사항 서지: Includes bibliographical references
수록자료: Applied science and convergence technology Vol.32 no.5(2023 September) p. 106-109 eISSN 2288-6559
표준번호/부호 DOI  https://doi.org/10.5757/ASCT.2023.32.5.106
주제명 기계 학습[機械學習]   계층 제어[階層制御]   
출처 국립중앙도서관 바로가기
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6361)
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