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플라즈마 이온식각 공정의 2차 스퍼터링 현상을 이용한 초고분해능 3차원 표면구조화 기술 개발 = Development of surface structuring technology for high resolution 3D complex nanostructures by using secondary sputtering phenomenon during plasma ion-etching process
표제/저자사항
플라즈마 이온식각 공정의 2차 스퍼터링 현상을 이용한 초고분해능 3차원 표면구조화 기술 개발 = Development of surface structuring technology for high resolution 3D complex nanostructures by using secondary sputtering phenomenon during plasma ion-etching process / 전환진 주관연구책임자한국산업기술대학교 주관연구기관
발행사항
[대전] : 한국연구재단, 2019
형태사항
총서사항
(신진연구자지원사업)
주기사항
서지: 참고문헌: p. 12
분류기호
한국십진분류법-> 530
주제명
표면 구조[表面構造]
출처
국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6361)
