학위논문
패드 표면 제어에 의한 반도체 웨이퍼의 연마 정밀도 향상에 관한 연구 = Research of performance improvement in semiconductor wafer polishing by control of pad surface condition
표제/저자사항 패드 표면 제어에 의한 반도체 웨이퍼의 연마 정밀도 향상에 관한 연구 = Research of performance improvement in semiconductor wafer polishing by control of pad surface condition / 박재홍
발행사항 부산 : 부산대학교, 2008
형태사항 120장 : 삽화, 도표 ; 26 cm
주기사항 학위논문(박사) -- 부산대학교 대학원, 정밀기계공학과, 2008
참고문헌 수록
영어 요약 있음
분류기호 한국십진분류법-> 552.3듀이십진분류법-> 621.93
주제명 연마재[硏磨材]
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6361)
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